研究機構(gòu)TECHCET最新預測顯示，受半導體市場復蘇推動，2025年光刻材料收入預計增長7%，達到50.6億美元。這一增長主要由先進光刻膠需求大幅增長驅(qū)動，特別是EUV光刻膠預計同比增長30%。

隨著芯片產(chǎn)量增長，尤其是邏輯芯片和DRAM芯片領域先進節(jié)點器件產(chǎn)量提升，輔助材料和擴展材料也將呈現(xiàn)強勁增長態(tài)勢。

TECHCET數(shù)據(jù)顯示，2024年光刻材料收入溫和增長1.6%，達到47.4億美元。其中光刻膠增長1%，EUV光刻膠表現(xiàn)最為突出，同比增長20%。輔助材料和擴展材料均表現(xiàn)良好，分別增長2%。

當前市場受益于先進節(jié)點工藝發(fā)展帶來的光刻膠需求穩(wěn)步增長，特別是EUV光刻膠，同時KrF和ArF等傳統(tǒng)光刻膠在3D NAND中的應用增加也促進了市場積極表現(xiàn)。

根據(jù)TECHCET的《2025年光刻材料關鍵材料報告》，預計到2029年，光刻材料市場將以6%的復合年增長率增長。未來市場發(fā)展將受到供應鏈本地化趨勢影響，美國、韓國、中國臺灣和大陸都將建設新設施。地緣政治緊張局勢，特別是對先進材料的限制以及中國在先進光刻技術方面的發(fā)展，將對材料供應產(chǎn)生影響。

該機構(gòu)認為，干法光刻膠沉積和納米壓印光刻等創(chuàng)新技術對滿足先進節(jié)點需求至關重要，同時行業(yè)正在應對諸如逐步淘汰PFAS相關化學品等挑戰(zhàn)，至少有一家大型光刻膠公司已開發(fā)出性能良好的非PFAS KrF光刻膠。